特許
J-GLOBAL ID:200903089988934905
乾燥装置および乾燥方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-282296
公開番号(公開出願番号):特開2005-046751
出願日: 2003年07月30日
公開日(公表日): 2005年02月24日
要約:
【課題】 タレやムラが生じることのない乾燥装置および乾燥方法の提供。【解決手段】一定方向に搬送される帯状体の表面に塗布された塗布液を乾燥する乾燥装置であって、前記帯状体に乾燥風を吹きつけるノズルが配設された乾燥ゾーンを有してなり、前記乾燥ゾーンにおいては、前記ノズル先端の風速V(m/s)、前記塗布液の塗布量W(cc/m2)、前記塗布液の表面張力σ(nN/m)、前記塗布液の粘度μ(mPa・s)、前記乾燥ゾーンの入口から乾燥終了点までの水平面に対する前記帯状体の角度の平均値θ(度)との間に関係式(V・W・sinθ)/(σ・μ)<1が成り立つような風速Vで乾燥風を吹き付ける乾燥装置、乾燥方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
一定方向に搬送される帯状体の表面に塗布された塗布液を乾燥する乾燥装置であって、
前記帯状体に乾燥風を吹きつけるノズルが配設された乾燥ゾーンを有してなり、
前記乾燥ゾーンにおいては、前記ノズル先端の風速V(m/s)、前記塗布液の塗布量W(cc/m2)、前記塗布液の表面張力σ(mN/m)、前記塗布液の粘度μ(mPa・s)、前記乾燥ゾーンの入口から乾燥終了点までの前記帯状体の平均角度θ(度)の間に、関係式:
(V・W・sinθ)/(σ・μ)<1
が成り立つような風速Vで乾燥風を吹き付けることを特徴とする乾燥装置。
IPC (6件):
B05C9/14
, B05D3/02
, B05D7/00
, F26B13/10
, F26B21/00
, G03F7/00
FI (6件):
B05C9/14
, B05D3/02 D
, B05D7/00 A
, F26B13/10 D
, F26B21/00 C
, G03F7/00 503
Fターム (51件):
2H096AA06
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096CA12
, 2H096CA20
, 2H096DA10
, 2H096JA02
, 2H096LA30
, 3L113AA02
, 3L113AB01
, 3L113AC48
, 3L113AC55
, 3L113BA28
, 3L113BA30
, 3L113BA34
, 3L113BA35
, 3L113CA11
, 3L113CA20
, 3L113CB23
, 3L113DA04
, 3L113DA24
, 4D075AE03
, 4D075BB24Z
, 4D075BB33Z
, 4D075BB38Z
, 4D075BB57Z
, 4D075BB91Z
, 4D075BB95Z
, 4D075CA42
, 4D075CA48
, 4D075DA04
, 4D075DB02
, 4D075DB07
, 4D075DB18
, 4D075DB36
, 4D075DB48
, 4D075DC16
, 4D075DC27
, 4D075EA06
, 4D075EA07
, 4D075EA45
, 4D075EB19
, 4F042AA22
, 4F042BA04
, 4F042BA10
, 4F042BA13
, 4F042BA15
, 4F042DB02
, 4F042DB11
, 4F042DB26
, 4F042DB29
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
ウエブ乾燥装置及びウエブ乾燥方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-300247
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
乾燥装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-005040
出願人:大日本印刷株式会社
-
塗布膜の熱処理方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-140023
出願人:富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (8件)
-
特開昭63-070249
-
ウエブ乾燥装置及びウエブ乾燥方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-300247
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
乾燥装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-150282
出願人:大日本印刷株式会社
-
特開昭63-070249
-
乾燥装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-005040
出願人:大日本印刷株式会社
-
特開平4-193371
-
塗布膜の熱処理方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-140023
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
塗布乾燥方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-303078
出願人:富士写真フイルム株式会社
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