特許
J-GLOBAL ID:200903089990407360

近赤外線カット材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小林 雅人 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-071747
公開番号(公開出願番号):特開2002-264278
出願日: 2001年03月14日
公開日(公表日): 2002年09月18日
要約:
【要約】【課題】従来技術の難点を解消し、近赤外線吸収色素等を含有する樹脂塗膜中の残存溶媒量を極少に制御することにより、高温下における前記樹脂塗膜中の近赤外線吸収色素等の長期安定性を大幅に改良した近赤外線カット材料及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明が採用した近赤外線カット材料は、透明基材上に、少なくとも近赤外線吸収色素と550〜620nmに極大吸収波長を有する色素とを含有する透明樹脂塗膜を積層してなると共に、前記透明樹脂塗膜中の残存溶媒量が、5重量ppm以上且つ500重量ppm未満であることを特徴とする。
請求項(抜粋):
透明基材上に、少なくとも近赤外線吸収色素と550〜620nmに極大吸収波長を有する色素とを含有する透明樹脂塗膜を積層してなると共に、前記透明樹脂塗膜中の残存溶媒量が、5重量ppm以上且つ500重量ppm未満であることを特徴とする近赤外線カット材料。
IPC (3件):
B32B 27/20 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/22
FI (3件):
B32B 27/20 A ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/22
Fターム (38件):
2H048CA04 ,  2H048CA09 ,  2H048CA12 ,  2H048CA19 ,  2H048CA26 ,  2H048CA29 ,  4F100AH03B ,  4F100AH03C ,  4F100AH03H ,  4F100AH08B ,  4F100AH08H ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AK41 ,  4F100AK43B ,  4F100AK45B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA13B ,  4F100CA13C ,  4F100CC00B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ242 ,  4F100EJ862 ,  4F100GB41 ,  4F100JD10B ,  4F100JD14B ,  4F100JD14C ,  4F100JL02 ,  4F100JL05 ,  4F100JL11C ,  4F100JN01A ,  4F100JN01C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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