特許
J-GLOBAL ID：200903089993229365
溶射皮膜の評価方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-073438
公開番号（公開出願番号）：特開平8-269672
出願日： 1995年03月30日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：
【要約】【目的】 溶射皮膜の断面組織採取を行なわずに溶射皮膜の特性評価を行う。【構成】 溶射ガン1によって溶射された基材4の表面の溶射粒子1aの状態をカメラ装置9で捕え、このカメラ装置9で捕えた画像を基に、画像処理手段(コンピュータ11)によって溶射粒子1aのうち基材4表面に堆積せずに反射した反射粒子の比率を求める。そして、駆動手段7で溶射アングル(溶射ガン1の軸線と基材4表面とのなす角度)を変化させた場合の反射粒子1bの比率が、予め設定した限界溶射アングルより低度の溶射アングルで基準値に達したか否かにより、評価手段(コンピュータ11)によって溶射皮膜15の特性の評価を行う。
請求項（抜粋）：
溶射ガンによって溶射粒子を溶射することにより基材の表面に形成される溶射皮膜の特性を評価する溶射皮膜の評価方法において、前記溶射ガンと前記基材との相対位置を変化させながら溶射ガンによって溶射粒子を基材の表面に溶射し、前記溶射ガンによって溶射された基材の表面の溶射粒子の状態をカメラ装置で捕え、このカメラ装置で捕えた画像を基に、前記溶射粒子のうち前記基材表面に堆積せずに反射した反射粒子の比率を求め、前記溶射ガンと前記基材との相対位置を変化させた場合の反射粒子の比率が、予め設定した限界相対位置より低度の相対位置で基準値に達したか否かにより溶射皮膜の特性の評価を行うことを特徴とする溶射皮膜の評価方法。
IPC (4件)：
C23C 4/00
, B05D 1/08
, B05D 3/00
, G01N 21/88
C23C 4/00
, B05D 1/08
, B05D 3/00 D
, G01N 21/88 Z
