特許
J-GLOBAL ID：200903089998339860
低温プラズマによる合成ガスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-331620
公開番号（公開出願番号）：特開2003-137503
出願日： 2001年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 炭化水素と水、空気、酸素、二酸化炭素などの改質剤から、簡便に合成ガスを高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】 有機化合物を改質剤を用いて合成ガスを製造する方法において、該改質反応を低温プラズマ下で行う。
請求項（抜粋）：
有機化合物を改質剤を用いて合成ガスを製造する方法において、該改質反応を低温プラズマ下で行うことを特徴とする合成ガスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4G040EA01
, 4G040EA02
, 4G040EA03
, 4G040EA05
, 4G040EA06
, 4G040EA07
, 4G040EB11
