特許
J-GLOBAL ID：200903090016124952
基板回転式現像処理方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-180967
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022952
出願日： 1994年07月07日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】 現像液を基板表面全面に速やかに供給して液盛りし、現像液の消費量を低減させ、液盛り中の現像液ミストによる基板汚染を低減する基板回転式現像処理方法とその装置を提供する。【構成】 基板Wはスピンチャック1に回転中心CP周りに水平回転可能に支持される。この基板Wの上方の吐出位置には現像液供給用のノズル5が配置される。現像液の液盛り工程中、拡散部材8は、基板Wの回転方向と交差する方向で、かつ、基板Wの表面から微小間隔d隔てた処理位置で拡散部材変位機構9により支持される。基板Wが回転中心CP周りに低速で水平回転されながら、ノズル5から基板Wに吐出された現像液が拡散部材8によって広げられ液盛りされる。
請求項（抜粋）：
基板を水平回転させながら、前記基板の表面に吐出される現像液を前記基板表面に液盛りして現像処理を行う基板回転式現像処理方法において、前記回転中の基板の表面に吐出された現像液を、前記基板表面から微小間隔を隔てて配置された拡散部材で受け止めながら、前記基板表面に現像液を液盛りすることを特徴とする基板回転式現像処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
H01L 21/30 569 C
, H01L 21/30 569 F
