特許
J-GLOBAL ID:200903090016976746

加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 春日 讓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-230247
公開番号(公開出願番号):特開2007-013198
出願日: 2006年08月28日
公開日(公表日): 2007年01月18日
要約:
【課題】酸素濃度を効率的に低下させることができる加熱装置を提供することにある。【解決手段】蒸気槽10の中の加熱用熱媒20を加熱して、飽和蒸気層22を形成し、飽和蒸気層22の中に被加熱物を浸漬して加熱する。飽和蒸気が存在する空間の出入口側に入口側排気室130,出口側排気室140が設けられ、入口側排気室130,出口側排気室140から吸引された気体及び熱媒から熱媒を回収する回収器220を備える。回収器220により熱媒の回収された気体は、排気室130,140に循環させる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
加熱用熱媒を加熱して、この熱媒の飽和蒸気層を形成し、この飽和蒸気層の中に被加熱物を浸漬して加熱するとともに、上記飽和蒸気層の近傍に不活性ガスを供給して低酸素濃度化する加熱装置において、 上記飽和蒸気が存在する空間の出入口側に設けられた排気室と、 この排気室から吸引された気体及び熱媒から熱媒を回収する回収手段とを備え、 熱媒の回収された気体を上記排気室に循環させることを特徴とする加熱装置。
IPC (3件):
H05K 3/34 ,  B23K 1/015 ,  B23K 31/02
FI (3件):
H05K3/34 507F ,  B23K1/015 B ,  B23K31/02 310B
Fターム (9件):
5E319AA01 ,  5E319AC01 ,  5E319BB08 ,  5E319CC35 ,  5E319CC58 ,  5E319CD36 ,  5E319GG03 ,  5E319GG07 ,  5E319GG20
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • ベーパーリフローはんだ付け装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-159456   出願人:日立テクノエンジニアリング株式会社
  • 特開平3-047674
  • 特開昭62-148085
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審査官引用 (7件)
  • ベーパーリフローはんだ付け装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-159456   出願人:日立テクノエンジニアリング株式会社
  • 特開平3-047674
  • 特開昭62-040971
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