特許
J-GLOBAL ID：200903090046107955
レジスト除去方法及びレジスト除去装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-231222
公開番号（公開出願番号）：特開2006-049713
出願日： 2004年08月06日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】多種類の下地上に積層されたレジストを確実に除去することができ、基板が大面積の場合でもレジスト除去に要する時間を短縮できる。【解決手段】レジスト除去装置Dは、大気圧近傍の圧力下で、フッ素系ガスをプラズマ化した処理ガスをレジストに照射することによりレジスト4と基板1との密着性を低下させるプラズマ処理部10と、密着性が低下されたレジスト4に水分を供給し、基板上から剥離して除去する除去処理部20とを備える。レジストに水分を供給する除去処理部は、基板上のレジストに純水を吹き付けるノズル23及び/又は基板を純水中に浸漬する処理槽を備える。プラズマ処理部は、プラズマ化したフッ素系ガスを吹き出すライン状の吹き出し口16bを備えており、吹き出し口の照射幅を広げる拡散板35を備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に積層されたレジストを除去する方法であって、
大気圧近傍の圧力下で、フッ素系ガスをプラズマ化して前記レジストに照射することによりレジストと基板との密着性を低下させる工程と、前記レジストに水分を供給して密着性が低下されたレジストを基板上から剥離して除去する工程とを備えることを特徴とするレジスト除去方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046MA02
, 5F046MA10
, 5F046MA12
, 5F046MA17
