特許
J-GLOBAL ID：200903090104042222

洗浄・乾燥処理装置

発明者：
上川 裕二

上川 裕二 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-172794
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008217
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【課題】 洗浄処理部と乾燥処理部を開閉するシャッタの駆動部から処理部への異物の混入、及び処理部内の雰囲気のシャッタ駆動部への混入を防止し、製品歩留まりの向上及び装置の性能の向上と寿命の増大を図れるようにすること。【解決手段】 半導体ウエハWの洗浄液を収容する洗浄処理部22と、この洗浄処理部22の上部に位置する乾燥処理部23と、これらの洗浄処理部22と乾燥処理部23の連通口を開閉する水平移動可能なシャッタ36と、このシャッタ36の開閉移動手段54を気水密にシールする液体シール機構60とを具備するように形成する。
請求項（抜粋）：
被処理体の洗浄液を収容する洗浄処理部と、上記洗浄処理部の上部に位置する乾燥処理部と、上記洗浄処理部と乾燥処理部の連通口を開閉する水平移動可能なシャッタと、上記シャッタの開閉移動部を気水密にシールする液体シール機構と、を具備することを特徴とする洗浄・乾燥処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 361
FI (2件)：
H01L 21/304 351 C ,  H01L 21/304 361 H
引用特許：
審査官引用 (2件)

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