特許
J-GLOBAL ID：200903090124506276

収差計測方法及び投影露光装置

発明者：
塩出 吉宏

塩出 吉宏 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-288928
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178968
出願日： 2002年10月01日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：
【要約】【課題】 光学系の波面収差を高精度に計測することができる収差計測方法及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 テストパターンを投影光学系を介し基板面上に結像させ、形成したテストパターン像の位置ずれ量から先の投影光学系の収差を測定する収差計測方法において、投影光学系の瞳領域を最適化することにより、テストパターンを介して投影光学系の最適な瞳領域を通過する光束を、最適化された投影光学系の瞳領域を通過させ、形成したテストパターン像の位置ずれを計測し、収差計測を行うこと。
請求項（抜粋）：
投影光学系の収差を計測する方法において、テストパターンを投影光学系を介して結像させるステップと、該テストパターン像の位置ずれ量を測定し、該位置ずれ量に基づいて前記投影光学系の収差を測定するステップとを有し、前記結像させるステップにおいて、前記テストパターン像の前記位置ずれと特定のZernike項の係数が1:1の関係となるように前記テストパターンからの光の前記投影光学系の瞳での通過領域を制限することを特徴とする収差計測方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A
Fターム (5件)：
5F046BA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05
引用特許：
審査官引用 (3件)

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