特許
J-GLOBAL ID：200903095745896738
投影光学系の結像特性計測方法及び投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-126614
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304653
出願日： 1998年04月22日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の収差を高精度で迅速に計測することができる結像特性計測方法を提供すること。【解決手段】 レチクルR上に配置されたテストパターン31の像をウェハW上に転写する投影光学系PLの結像特性を計測する。この際、投影光学系PLの光軸AXに対して傾斜した方向から照明されたレチクルR上のテストパターン31の像を投影光学系PLを介してウェハW上に転写し、転写された像の位置を開口部材24等からなる装置によって検出する。テストパターン31は繰り返し周期を有しており、この周期は、レチクルRの斜入射照明の角度に応じて変更する。これにより、投影光学系の収差を高精度で迅速に計測することができる。
請求項（抜粋）：
第1面上に配置された所定パターンを第2面上に転写する投影光学系の結像特性計測方法において、前記所定パターンを前記投影光学系の光軸に対して傾斜した方向から照明し、前記傾斜した方向から照明された前記所定パターンの像を前記投影光学系を介して前記第2面上に転写し、該転写された像の位置を計測し、前記位置より前記投影光学系の所定の結像特性を計測することを特徴とする投影光学系の結像特性計測方法。
IPC (4件)：
G01M 11/02
, G01B 11/00
, G03F 7/207
, H01L 21/027
G01M 11/02 A
, G01B 11/00 C
, G03F 7/207 Z
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 A
