特許
J-GLOBAL ID：200903090138081839

ポリイミド光学素子の製造方法

発明者：
堀池 美華

堀池 美華 について

, 
日野 敦司

日野 敦司 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 岡本 寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-289293
公開番号（公開出願番号）：特開2005-055833
出願日： 2003年08月07日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】 耐熱性に優れるポリイミドから形成しても、安定した屈折率変化領域を形成することができ、光伝搬損失を低減することのできる、ポリイミド光学素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 ポリイミド前駆体の溶液を調製し、これを基板6上に成膜後、乾燥させ、得られたポリイミド前駆体皮膜5をXYZステージ4に載置する。次いで、光源1から、パルスレーザ光を連続または不連続に発光させて、そのパルスレーザ光を反射鏡2を介して集光レンズ3に照射し、その集光レンズ3から、ポリイミド前駆体皮膜5の内部に集光させる。そして、このようなパルスレーザ光の照射とともにXYZステージ4を3次元的に移動させると、パルスレーザ光の集光点Pが、ポリイミド前駆体皮膜5の内部において相対的に移動し、その集光点Pの移動軌跡に沿って、その他の部分よりも屈折率が高くなる連続または不連続な領域として、屈折率変化領域Sが3次元的に形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ポリイミド前駆体皮膜を用意する工程、 前記ポリイミド前駆体皮膜の内部にパルスレーザ光を集光させ、その集光点を前記ポリイミド前駆体皮膜の内部で連続または不連続に移動させることにより、屈折率が変化した屈折率変化領域を形成する工程、 前記屈折率変化領域が形成された前記ポリイミド前駆体皮膜をイミド化する工程 を含んでいることを特徴とする、ポリイミド光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02B6/13 ,  G02B5/18
FI (2件)：
G02B6/12 M ,  G02B5/18
Fターム (9件)：
2H047KA03 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA36 ,  2H049AA33 ,  2H049AA43 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62
引用特許：
出願人引用 (1件)

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