特許

J-GLOBAL ID：200903090138330219

高耐酸性メソポーラスシリカ薄膜及びその製造方法、並びにそのメソポーラスシリカ薄膜を用いたクラスター包接薄膜及びその製造方法

発明者： 熊井 葉子 ,  杉本 憲昭 ,  塚田 浩司 ,  市川 勝 ,  福岡 淳
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗 ,  長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-264647
公開番号（公開出願番号）：特開2004-099381
出願日： 2002年09月10日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】十分な耐酸性を有し、細孔の表面の平滑性及び細孔の配向性に優れたメソポーラスシリカ薄膜及びその製造方法を提供し、さらにそのメソポーラスシリカ薄膜を用いたクラスター包接薄膜及びその製造方法を提供すること。【解決手段】膜厚が1μm以下であり、かつ中心細孔直径が1〜50nmであるメソポーラスシリカ薄膜であって、前記メソポーラスシリカ薄膜のX線回折測定における(100)面を示すピークの初期強度(I1)と、前記メソポーラスシリカ薄膜を酸性溶液に24時間含浸させる耐酸性試験後の前記ピークの強度(I2)とが以下の関係式(1):(1-(I2/I1))×100≦90 (1)を満たすものであることを特徴とする高耐酸性メソポーラスシリカ薄膜及びその製造方法、並びにそのメソポーラスシリカ薄膜を用いたクラスター包接薄膜及びその製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

膜厚が1μm以下であり、かつ中心細孔直径が1〜50nmであるメソポーラスシリカ薄膜であって、 前記メソポーラスシリカ薄膜のX線回折測定における(100)面を示すピークの初期強度(I1)と、前記メソポーラスシリカ薄膜を酸性溶液(15wt%塩化白金酸(H2PtCl6)水溶液と水とエタノールを体積比1:2:2で混合したpH0.6である酸性溶液)に24時間含浸させる耐酸性試験後の前記ピークの強度(I2)とが以下の関係式(1): (1-(I2/I1))×100≦90 (1) を満たすものであることを特徴とする高耐酸性メソポーラスシリカ薄膜。

IPC (2件)：

C01B37/02 ,  B01J19/00

FI (2件)：

C01B37/02 ,  B01J19/00 K

Fターム (42件)：

4G066AA14D ,  4G066AA22B ,  4G066AB18A ,  4G066BA03 ,  4G066BA20 ,  4G066BA31 ,  4G066FA03 ,  4G066FA07 ,  4G066FA22 ,  4G066FA33 ,  4G066FA34 ,  4G073BA36 ,  4G073BA37 ,  4G073BA40 ,  4G073BA41 ,  4G073BA44 ,  4G073BA45 ,  4G073BA46 ,  4G073BA48 ,  4G073BA49 ,  4G073BA50 ,  4G073BA63 ,  4G073BB58 ,  4G073BC02 ,  4G073BD18 ,  4G073BD22 ,  4G073CZ54 ,  4G073FB41 ,  4G073FC23 ,  4G073GA03 ,  4G073GA08 ,  4G073GA13 ,  4G073UA01 ,  4G073UA06 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BD16 ,  4G075CA02 ,  4G075CA57 ,  4G075FA14 ,  4G075FB04 ,  4G075FC09