特許
J-GLOBAL ID：200903090200872902

標的材を処理するエネルギー効率に優れたレーザーベースの方法およびシステム

発明者：
スマート ドナルド ヴィ

スマート ドナルド ヴィ について


出願人/特許権者：
ジーエスアイ ルモニクス インコーポレイテッド

ジーエスアイ ルモニクス インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-548238
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518440
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：
【要約】標的材料を包囲している材料の電気特性および/または物理特性に望ましくない変化を生じること無しに、微細領域の微小構造体のような標的材料を処理する方法およびシステムが提供される。このシステムは、処理制御信号を発生させる制御装置と、処理制御信号に基づいて変調された駆動波形を発生させる信号発生装置とを備えている。このシステムは、レーザーパルス列を或る反復率で発生させるための、利得スイッチ制御のパルス式半導体シードレーザーを備えている。駆動波形がレーザーをポンピングし、パルス列のパルスごとに所定の波形を有するようにしている。更に、このシステムは、パルス列を光増幅させて、パルスの所定形状をそれほど変化させずに、増幅パルス列を得るようにしたレーザー増幅器を備えている。増幅パルスは各々が実質的に方形の時間出力密度と、急峻な立上がり時間と、パルス持続時間と、パルス降下時間とを有している。このシステムは、増幅パルス列の少なくとも一部を搬送し、標的材料上に合焦させるビーム搬送/合焦サブシステムを更に備えている。
請求項（抜粋）：
標的材料を包囲している材料の電気特性と物理特性の望ましくない変化を引き起こすこと無しに、微細領域において特定寸法を有している標的材料を処理するための、エネルギー効率のよいレーザーベースの方法であって、この方法は、 或る反復率の波長を有しているレーザーを利用して、レーザーパルス列を発生させる工程を含んでおり、パルス列の各パルスが所定の形状を有しており、 パルスの所定の形状をそれほど変化させずにパルス列を光増幅させて、増幅されたパルス列を得るようにした工程を更に含んでおり、増幅パルスは各々が実質的に方形の時間出力密度分布と、急峻な立上がり時間と、パルス持続時間と、パルス降下時間とを有しており、 増幅パルス列の少なくとも一部を搬送し、標的材料上の1点に合焦させる工程を更に含んでおり、立上がり時間は、レーザーエネルギーを標的材料に効率的に結合するのに十分なだけ高速であり、パルス持続時間は標的材料を処理するのに十分な長さであり、パルス降下時間は、標的材料を包囲している材料に望ましくない変化が生じるのを防止するのに十分なだけ迅速である、方法。
IPC (4件)：
B23K 26/00 ,  H01L 21/302 201 ,  H01S 3/00 ,  B23K101:36
FI (4件)：
B23K 26/00 N ,  H01L 21/302 201 B ,  H01S 3/00 B ,  B23K101:36
Fターム (23件)：
4E068CA02 ,  4E068CK01 ,  4E068DA09 ,  4E068DA11 ,  4E068DA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB03 ,  5F004DB08 ,  5F004EA38 ,  5F004EB02 ,  5F072AB07 ,  5F072AK06 ,  5F072JJ08 ,  5F072JJ09 ,  5F072JJ20 ,  5F072MM01 ,  5F072MM03 ,  5F072MM07 ,  5F072MM20 ,  5F072PP07 ,  5F072RR01 ,  5F072SS06 ,  5F072YY08
引用特許：
審査官引用 (6件)
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