特許

J-GLOBAL ID：200903090230365339

ペリクル用保管装置およびそれを用いた保管方法

発明者： 野崎 聡 ,  樫田 周
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014410
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214579
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 クリーンルーム内でペリクルを製造するに際して、ペリクル中間体および最終的に完成したペリクルの保管中に異物等が付着することがなく、かつ保管面積の少ない保管装置、さらにはこの保管装置用いた保管方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 ペリクルの出し入れが可能な取り出し口を有し、内部にペリクルを収納する保管室を鉛直方向に複数設けてなる多段ストッカー部と、前記各保管室内部に清浄な空気を送風する送風部とを有することを特徴とするペリクル用保管装置である。

請求項（抜粋）：

ペリクルの出し入れが可能な取り出し口を有し、内部にペリクルを収納する保管室を鉛直方向に複数設けてなる多段ストッカー部と、前記各保管室内部に清浄な空気を送風する送風部とを有することを特徴とするペリクル用保管装置。

Fターム (1件)：

2H095BC31

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-109515   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-109750
  
• 特開平3-109750