特許
J-GLOBAL ID：200903090276894573
キャパシタの製造方法及びキャパシタを備える基板
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田下 明人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-320933
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149946
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 キャパシタを正確な容量値に作成できるキャパシタの製造方法及びキャパシタを備える基板を提供する。【解決手段】 上部電極層50の外周にTi薄膜層から成る容量値調整用の矩形延在部分36aを複数形成する。ここで、薄膜キャパシタの容量値を測定し、目標値を越える際に、該矩形延在部分36aの内の幾つかをエッチングにより除去することで、薄膜キャパシタの容量値を容易に調整することができる。このため、陽極化成処理を用いて正確な容量値の薄膜キャパシタを製造することが可能となる。
請求項（抜粋）：
キャパシタの下部電極層を形成する工程と、前記下部電極層の上に陽極化成処理により誘電体層を形成する工程と、前記誘電体の上にキャパシタの上部電極層であって、外周に容量値調整用の延在部分を複数有する上部電極層を形成する工程と、前記上部電極層の前記複数の延在部分の内の幾つかをエッチングにより除去し、キャパシタの容量値を調整する工程と、を有するキャパシタの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01G 4/34
, H01G 4/06 102
