特許

J-GLOBAL ID：200903090281165253

電析槽、および電析装置

発明者： 荒尾 浩三 ,  園田 雄一 ,  宮本 祐介 ,  遠山 上
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-207018
公開番号（公開出願番号）：特開2000-038699
出願日： 1998年07月23日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 複数の電源電位を制御して、その電源からの電析電流を安定なものとすることにより、長尺基板上にムラのない一様な酸化物膜を安定して堆積することができる電析槽、および電析装置を提供する。【解決手段】 電析浴中で長尺基板とアノードとに通電して、基板1001上に酸化物を作成する電析槽であって、搬送される長尺基板1001に対向するように、その搬送方向1002に沿って複数のアノード1003,1004,1005を配置し、各アノード1003,1004,1005に各々独立した電源1007,1008,1009を接続して一定電位を印加する。

請求項（抜粋）：

電析浴中で基板とアノードとに通電して長尺基板上に酸化物を作成する電析槽において、搬送される長尺基板に対向するように、その搬送方向に沿って複数のアノードを配置し、各アノードに各々独立した電源を接続して一定電位を印加することを特徴とする電析槽。

IPC (3件)：

C25D 21/00 ,  C25D 9/08 ,  H01L 31/052

FI (3件)：

C25D 21/00 J ,  C25D 9/08 ,  H01L 31/04 G

Fターム (5件)：

5F051BA14 ,  5F051CA22 ,  5F051GA02 ,  5F051GA05 ,  5F051GA06

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 金属ストリップの幅方向めっき付着量制御用めっき電極ならびにめっき付着量制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-100892   出願人：川崎製鉄株式会社
• 酸化亜鉛薄膜の製造方法、それを用いた半導体素子基板及び光起電力素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-021466   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (2件)

• 金属ストリップの幅方向めっき付着量制御用めっき電極ならびにめっき付着量制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-100892   出願人：川崎製鉄株式会社
• 酸化亜鉛薄膜の製造方法、それを用いた半導体素子基板及び光起電力素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-021466   出願人：キヤノン株式会社