特許
J-GLOBAL ID:200903090305514300

ウエハ保持装置の給電構造

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-348266
公開番号(公開出願番号):特開平10-189696
出願日: 1996年12月26日
公開日(公表日): 1998年07月21日
要約:
【要約】【課題】静電チャックやサセプタなどのセラミックスからなるウエハ保持装置内に内蔵する吸着用電極、ヒータ電極、高周波発生用電極への給電端子のロウ付け固定時や加熱、冷却の繰り返しにおいてウエハ保持装置の破損を防止する。【解決手段】セラミック基体の上面を保持面とし、内部に吸着用電極、ヒータ電極、高周波発生用電極などの内部電極を備えてなるウエハ保持装置の給電構造として、上記セラミック基体の裏面に給電端子を取り付けるための固定孔を前記電極を貫通して穿設し、その内壁にメタライズ層を形成するとともに、上記固定孔の内壁の側壁面又は底面のいずれか一方のみにロウ付けでもって給電端子を接合する。
請求項(抜粋):
セラミック基体の上面を保持面とし、内部に少なくとも一つの電極を備えてなるウエハ保持装置において、上記セラミック基体の裏面に給電端子を取り付けるための固定孔を前記電極を貫通して穿設し、その内壁にメタライズ層を形成するとともに、上記固定孔の内壁の側壁面又は底面のいずれか一方と給電端子をロウ付け固定してなるウエハ保持装置の給電構造。
IPC (3件):
H01L 21/68 ,  H02N 13/00 ,  H05B 3/08
FI (3件):
H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D ,  H05B 3/08
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • ウエハ保持装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-110872   出願人:京セラ株式会社
  • 特開平3-217043

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