露光装置およびそれに用いられる支持部材

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-236568
公開番号（公開出願番号）：特開2001-068536
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】高精度で露光処理を行うことができる露光装置およびそれに用いられる支持部材を提供すること。また、上記に加えて半導体ウェハを傷つけたり、パーティクルを発生させることがない露光装置およびそれに用いられる支持部材を提供すること。【解決手段】半導体ウェハ4を支持する支持部2と、支持部2に支持された半導体ウェハ4に対して微細パターンを形成するための露光処理を施す露光部3とを有する露光装置1は、支持部2を構成する支持部材である静電チャック5、XYステージ6、ステージ駆動系7の少なくとも1つが、20〜30°Cにおける熱膨張係数が-1×10-6〜1×10-6/°C、ヤング率が150GPa以上、比剛性が50GPa/g/cm3以上のセラミックスからなる。

請求項（抜粋）：

半導体ウェハを支持する支持部と、支持部に支持された半導体ウェハに対して微細パターンを形成するための露光処理を施す露光部とを有する露光装置であって、前記支持部を構成する支持部材の少なくとも1つが、20〜30°Cにおける熱膨張係数が-1×10-6〜1×10-6/°C、ヤング率が150GPa以上、比剛性が50GPa/g/cm3以上のセラミックスからなることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , C04B 35/00 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 N , G03F 7/20 521 , C04B 35/00 H , H01L 21/30 503 A

Fターム (22件)：

4G030AA02 , 4G030AA16 , 4G030AA17 , 4G030AA36 , 4G030AA37 , 4G030AA41 , 4G030AA47 , 4G030AA51 , 4G030AA52 , 4G030BA14 , 4G030BA18 , 4G030BA24 , 4G030HA16 , 4G030HA18 , 4G030HA25 , 5F031CA02 , 5F031HA02 , 5F031HA16 , 5F031MA27 , 5F031PA26 , 5F046CC01 , 5F046CC08

引用特許：

審査官引用 (2件)

低熱膨張セラミックスおよびその製造方法、並びに半導体製造用部品
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-234635 出願人：京セラ株式会社
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-117408 出願人：キヤノン株式会社

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