特許
J-GLOBAL ID：200903090408571396
液晶表示素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-132039
公開番号（公開出願番号）：特開平9-318946
出願日： 1996年05月27日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：
【要約】【課題】 液晶表示素子の製造方法に関し、光配向処理により十分大きな角度のプレチルトを与える配向処理をより短時間で簡単に行うことを課題とする。【解決手段】 偏光を吸収すると、偏光方向に対してある方向に液晶分子を配向させる性質を生じる光偏光記憶膜を表面に形成した基板を準備する工程と、非偏光を前記基板の面に対して斜めの方向から前記光偏光記憶膜に照射して前記光偏光記憶膜に吸収させる配向処理工程と、前記配向処理工程により配向処理をした基板をすくなくとも一方に含む一対の基板を対向配置して液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶材料を注入する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
偏光を吸収すると、偏光方向に対してある方向に液晶分子を配向させる性質を生じる光偏光記憶膜を表面に形成した基板を準備する工程と、非偏光を前記基板の面に対して斜めの方向から前記光偏光記憶膜に照射して前記光偏光記憶膜に吸収させる配向処理工程と、前記配向処理工程により配向処理をした基板をすくなくとも一方に含む一対の基板を対向配置して液晶セルを作製し、該液晶セルに液晶材料を注入する工程とを有する液晶表示素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1337 505
, G02F 1/1335 510
G02F 1/1337 505
, G02F 1/1335 510
