特許
J-GLOBAL ID：200903090540561774
電子ビームを用いた検査方法及びその装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-300275
公開番号（公開出願番号）：特開平11-132975
出願日： 1997年10月31日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 電子ビームが試料表面に斜めに入射されることから、パターン側壁に存在する欠陥の検査が不可能であること、光軸調整が困難であることなどの問題が生じていた。【解決手段】 試料11に電子ビーム31を照射させる電子ビーム照射部1〜10、試料表面の形状、材質、電位の変化に応じて発生した二次電子及び反射電子32の一次元像及び/又は二次元像を結像させる写像投影光学部16〜21、この一次元像及び/又は二次元像に基づいて検出信号を出力する電子ビーム検出部22〜27、検出信号を与えられて試料表面の一次元及び/又は二次元像を表示する画像表示部30、電子ビーム照射部から照射された電子ビームの試料への入射角度と、二次電子及び反射電子の写像投影光学部への取り込み角度を変化させる電子ビーム偏向部27、43〜44を備える。
請求項（抜粋）：
試料に電子ビームを照射させる電子ビーム照射部と、前記電子ビーム照射部により試料に電子ビームが照射されて、試料表面に応じて発生した二次電子及び反射電子の一次元像又は二次元像を電子ビーム検出部上に結像させる写像投影光学部と、前記写像投影光学部により結像された前記二次電子及び反射電子の一次元像又は二次元像に基づいて検出信号を出力する前記電子ビーム検出部と、前記電子ビーム検出部から出力された前記検出信号を与えられて、前記試料表面の一次元又は二次元像を表示する画像表示部と、前記電子ビーム照射部から照射された電子ビームの試料への入射角度と、前記二次電子及び反射電子の前記写像投影光学部への取り込み角度を変化させる電子ビーム偏向部と、を備えることを特徴とする電子ビーム検査装置。
IPC (4件)：
G01N 23/225
, G01B 11/30
, G01N 23/20
, H01L 21/66
G01N 23/225
, G01B 11/30 C
, G01N 23/20
, H01L 21/66 J
