特許
J-GLOBAL ID：200903090545911153
基板処理装置、濃度測定装置、および濃度測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-019153
公開番号（公開出願番号）：特開平11-219931
出願日： 1998年01月30日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 高温の処理液にも用いることができる濃度測定装置および濃度測定方法、ならびにこれらを用いた基板処理装置を提供する。【解決手段】 濃度測定部65は、窒素ガス供給部651、レギュレータ652、供給管653、圧力検出部654などを有する。処理槽602には処理液Lが貯留されており、供給管653の先端部653aは処理液Lの液面下において液面から所定の距離hを保つ位置に配置される。処理槽602に貯留される処理液Lの液圧を、液面から所定の深さhの位置に配置した先端部653aでの窒素ガスのガス圧として検出する。また圧力検出信号と濃度値とのそれぞれの値の間の対応関係をあらかじめ求めておく。そして、圧力検出部654の圧力センサーの電圧値をあらかじめ求めておいた対応関係に基づいて濃度表現信号を求めることによって処理液の濃度を測定する。
請求項（抜粋）：
処理槽内の所定の処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行う基板処理装置において、a) 前記処理槽の内部の所定深さに検出端を有し、前記処理槽内の処理液が前記検出端に与える液圧を検出する圧力検出手段、を備え、前記圧力検出手段により検出された液圧に基づいて処理液の濃度値を求めることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 648
H01L 21/306 J
, H01L 21/304 648 G
