めっき液管理方法及び管理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：熊谷隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-243441
公開番号（公開出願番号）：特開2001-073200
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】めっき液の添加剤の分析に自動分析手段を用い、その分析結果に基づいてめっき液の成分を調整できるめっき液管理方法及び管理装置を提供すること。【解決手段】めっき液をサンプリング手段21で所定の間隔で所定量サンプリングし、その成分を自動分析手段22で分析し、該分析された結果及び/或いは該被めっき基板12の処理枚数とめっきを施すために消費した電気量に基づき、成分補給液をめっき液中に補給し、めっき液の成分を管理するめっき液管理方法において、成分補給液は、標準液Q1と、異なる複数の添加剤をそれぞれ基本液に添加してなる複数種の補給液Q2〜Q4と、硫酸Q5と、塩酸Q6とからなり、各成分補給液をめっき液中に補給することにより、めっき液の成分を管理することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被めっき基板をめっき液中に浸漬させて、該被めっき基板の表面にめっきを施すめっき装置のめっき液を所定の間隔で所定量サンプリングし、該サンプリングしためっき液の成分を自動分析手段で分析し、該分析された結果及び/或いは該被めっき基板の処理枚数と該被めっき基板にめっきを施すために消費した電気量に基づき、該めっき液を構成する成分からなる成分補給液を前記めっき液中に補給し、めっき液の成分を管理するめっき液管理方法において、前記成分補給液は、標準液と、異なる複数の添加剤をそれぞれ基本液に添加してなる複数種の溶液と、硫酸と、塩酸との全て、或いはこれらの一部からなり、各成分補給液を前記めっき液中に補給することにより、めっき液の成分を個別に補給・管理することを特徴とするめっき液管理方法。ここで、前記基本液とは少なくとも硫酸銅(CuSO4・5H2SO4)と硫酸(H2SO4)を所定の割合で混合した溶液であり、標準液とは該基本液に前記複数の添加剤及び塩酸を所定の割合で添加した溶液である。

IPC (2件)：

C25D 21/14 , H01L 21/3205

FI (2件)：

C25D 21/14 B , H01L 21/88 B

Fターム (5件)：

5F033KK11 , 5F033MM01 , 5F033PP27 , 5F033XX00 , 5F033XX37

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-193899
特開昭60-096799
特開昭60-009900

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