特許

J-GLOBAL ID：200903090577145991

プラズマ処理方法および装置

発明者： 椿 武士 ,  中田 健二 ,  田村 直行 ,  山本 秀之 ,  平野 裕義 ,  坂口 正道
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立笠戸エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-304069
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148309
出願日： 1995年11月22日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】プロセス処理終了後は、静電吸着保持力を減衰させ、次ウエハとの交換を行なうための搬送が直ちに行なえるための静電吸着解除処理が必要であった。この静電吸着解除処理が不十分な場合、または余分な静電吸着解除処理による再吸着保持が発生する場合、ウエハが試料台に保持されたままの状態でウエハの交換が行なわれ、場合によっては正常なウエハの搬送が行なえない可能性があった。【解決手段】電極に流れた電流を測定することにより静電吸着保持中と静電吸着解除処理実行中の蓄積電荷を比較して、試料と試料台の離脱を確認する。その後、試料の搬送を実行する。

請求項（抜粋）：

真空室内にプラズマを発生させるとともに、試料台に静電吸着電圧を印加して前記試料台に配置した試料を静電吸着保持し、前記プラズマによって前記試料を処理するプラズマ処理方法において、電極に流れた電流を測定することにより静電吸着解除処理実行中に前記試料台と前記試料の離脱が確認できることを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (7件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68 ,  H02N 13/00

FI (9件)：

H01L 21/302 B ,  B01J 19/08 E ,  C23F 4/00 A ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D ,  H01L 21/302 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-054637
  
• 静電吸着装置の吸着モニター装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-010475   出願人：株式会社日立製作所
• 真空処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-050781   出願人：株式会社日立製作所