特許
J-GLOBAL ID：200903090655169827
光学機能性フィルムの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-215689
公開番号（公開出願番号）：特開2004-310135
出願日： 2004年07月23日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】 低屈折率層を薄膜とすることができ、耐擦傷性を持ち、その屈折率を低い値とすることができ、透明とすることができる光学機能性フィルムの製造方法を塗布にて行う。 【解決手段】 (1) 工程紙上に、溶剤で希釈した低屈折率樹脂組成物を用いて塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚200nm 以下、屈折率1.60未満の低屈折率層を形成し、(2) 未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び/又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、(3) 該低屈折率層上に、屈折率1.60以上の微粒子層を光学膜厚がλ/4又はλ/2(450<λ<600nm)となるように形成し、(4) 該微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、加熱処理及び/又は電離放射線処理後、フルキュアーし、(5) 工程紙に形成された樹脂層上に接着剤層を形成するか、又は透明基材フィルムに接着剤層を形成して、(6) 該接着剤層を介して、樹脂層を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
(1)工程紙上に、溶剤で希釈した低屈折率樹脂組成物を用いて塗布し、溶剤を乾燥させて膜厚200nm以下の薄膜であって且つ屈折率1.60未満の低屈折率層を形成し、
(2)得られた低屈折率層を未硬化状態のまま、又は低屈折率層を加熱処理及び/又は電離放射線処理を行ってハーフキュアー又はフルキュアーさせ、
(3)得られた低屈折率層上に、屈折率1.60以上の微粒子層を光学膜厚がλ/4又はλ/2(450<λ<600nm)となるように形成し、
(4)得られた微粒子層上に、樹脂を主体とする塗膜を形成し、加熱処理及び/又は電離放射線処理を行って、この塗膜を他の塗膜の硬化も含めてフルキュアーし、
(5)得られた工程紙に形成されたフルキュアーされた樹脂層上に接着剤層を形成するか、又は別に用意した透明基材フィルムに接着剤層を形成して、
(6)前記接着剤層を介して、前記工程紙と前記透明基材フィルムを工程紙上に形成された樹脂層を内側にしてラミネートした後、工程紙を剥離することを特徴とする光学機能性フィルムの製造方法。
IPC (3件)：
G02B1/11
, B32B27/16
, G02B1/10
G02B1/10 A
, B32B27/16 101
, G02B1/10 Z
2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009CC03
, 2K009CC21
, 2K009DD02
, 2K009DD05
, 4F100AK01A
, 4F100AK01C
, 4F100AL05A
, 4F100AT00E
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10E
, 4F100CB00D
, 4F100DE01B
, 4F100EH46A
, 4F100EH46C
, 4F100EJ08A
, 4F100EJ08C
, 4F100EJ42A
, 4F100EJ42C
, 4F100EJ52A
, 4F100EJ52C
, 4F100GB41
, 4F100JN01E
, 4F100JN18A
, 4F100JN18B
, 4F100JN30
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
