特許
J-GLOBAL ID:200903090677673740
有機EL材料、有機EL素子及び有機EL素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊藤 洋二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-118326
公開番号(公開出願番号):特開2001-303038
出願日: 2000年04月19日
公開日(公表日): 2001年10月31日
要約:
【要約】【課題】 高温耐久性に優れた有機EL素子を提供する。【解決手段】 電極基板1上には、ITO(インジウムチンオキサイド)等よりなる陽極2が形成され、陽極2上には、アクリレート基及びメタクリレート基等の紫外線により反応して架橋することの可能な光反応性基を有する有機EL材料を用いて構成された有機層3が形成され、有機層3の上にはアルミニウム等よりなる陰極が形成されている。ここで、有機層3の内部には、光反応性基の反応によって架橋構造が形成されている。
請求項(抜粋):
光により反応して架橋することの可能な光反応性基を有することを特徴とする有機EL材料。
IPC (5件):
C09K 11/06 680
, C09K 11/06 620
, C09K 11/06 660
, H05B 33/10
, H05B 33/14
FI (5件):
C09K 11/06 680
, C09K 11/06 620
, C09K 11/06 660
, H05B 33/10
, H05B 33/14 B
Fターム (8件):
3K007AB14
, 3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
引用特許:
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