特許

J-GLOBAL ID：200903090733579913

乱反射防止膜用重合体とその製造方法

発明者： ミン ホ ジョン ,  スン エウン ホン ,  ジャエ チャン ジョン ,  ゲウン ス リー ,  キ ホ バイク
出願人/特許権者： ヒュンダイ エレクトロニクス インダストリーズ カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-388093
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192411
出願日： 2000年12月21日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 64M、256M、1G、4G DRAMの超微細バターンの形成時に使用でき、製品の収率を増大させることができる乱反射防止膜用重合体とその製造方法を提供する。【解決手段】 反射防止膜に使用される化合物自体が波長193nm及び248nmの波長の光を吸収できるように、重合体に吸光度の高い発色団を含有するように設計し、また、有機反射防止膜の成形性、気密性、耐溶解性などを付与するため、コーティング後、ハードベイク時に、樹脂内のエポキシ構造の開環反応で架橋させるメカニズムを導入した。

請求項（抜粋）：

下記の構造を有する乱反射防止膜用化合物。【化1】ここで、R10、R11はそれぞれ側鎖又は主鎖置換された炭素数1〜10のアルキル基を、R12は水素又はメチル基を示す。

IPC (11件)：

C08F 16/34 ,  C08F 2/14 ,  C08F 4/32 ,  C08F 8/02 ,  C08F220/30 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C09D 5/00 ,  C09D129/00 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

C08F 16/34 ,  C08F 2/14 ,  C08F 4/32 ,  C08F 8/02 ,  C08F220/30 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D129/00 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭39-003982
  
• 特公昭45-037031
  
• 特公昭39-027869
  
• 反射防止コーティング組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-188850   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー