特許
J-GLOBAL ID：200903090774628562
リグノフェノール系成形体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 英彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-379054
公開番号（公開出願番号）：特開2003-175527
出願日： 2001年12月12日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
要約：
【要約】【課題】リグノフェノール誘導体を主成分として含有する成形材料を用いる成形技術を提供する。【解決手段】成形材料としてフェノール誘導体で溶媒和された植物資源由来原料を濃酸と接触させて得られるリグノフェノール誘導体を含有する成形用組成物を加熱して成形するリグノフェノール系成形体の製造方法を提供する。本発明によれば、リグノフェノール誘導体自体が熱流動し、このために、リグノフェノール誘導体をそれ自体を成形材料として使用することができる。
請求項（抜粋）：
成形材料として、フェノール誘導体で溶媒和された植物資源由来原料を濃酸と接触させて得られるリグノフェノール誘導体を含有する成形用組成物を加熱して成形する、リグノフェノール系成形体の製造方法。
IPC (6件)：
B29C 45/00
, B29C 47/00
, C08H 5/02
, C08J 5/00 CFJ
, B29K 61:04
, C08L 97:00
B29C 45/00
, B29C 47/00
, C08H 5/02
, C08J 5/00 CFJ
, B29K 61:04
, C08L 97:00
4F071AA01
, 4F071AA41
, 4F071AA73
, 4F071BB05
, 4F071BB06
, 4F071BC07
, 4F206AA37
, 4F206JA07
, 4F206JF06
, 4F206JL02
, 4F207AA37
, 4F207KA01
, 4F207KA17
, 4F207KJ06
