特許
J-GLOBAL ID：200903090779663625
蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小林 久夫
, 佐々木 宗治
, 木村 三朗
, 大村 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-200064
公開番号（公開出願番号）：特開2005-042133
出願日： 2003年07月22日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】大型の被蒸着基板を蒸着することのできる高精度の蒸着マスク及びこの蒸着マスクの容易で低コストな製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置とその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置を備えた電子機器を提供する。【解決手段】1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップ2をマスク支持体1に接合した構造の蒸着マスクであって、マスクチップ2は、マスク支持体1の所定の位置に接合され、マスクチップ2の向きは、単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合され、マスクチップ2は、単結晶シリコン基板に開口部が形成されてなるものである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップをマスク支持体に接合した構造の蒸着マスクであって、
前記マスクチップは、前記マスク支持体の所定の位置に接合され、
前記マスクチップの向きは、前記単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合され、
前記マスクチップは、前記単結晶シリコン基板に開口部が形成されてなるものであることを特徴とする蒸着マスク。
IPC (4件)：
C23C14/24
, C23C14/04
, H05B33/10
, H05B33/14
C23C14/24 G
, C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029HA02
, 4K029HA04
