特許
J-GLOBAL ID:200903090827881214

欠陥評価装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 村瀬 一美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-199503
公開番号(公開出願番号):特開2002-014061
出願日: 2000年06月30日
公開日(公表日): 2002年01月18日
要約:
【要約】【課題】 バルク材料など被測定物の内部欠陥の状況を表面から深い位置であっても有効に検出し評価する。【解決手段】 消滅する際のポジトロンがγ線を生じさせる陽電子消滅を利用して被測定物2内における格子欠陥などの欠陥3を検出し評価する際、X線を被測定物2に照射して被測定物2内にてパルスポジトロン群を発生させる。ポジトロンを、被測定物2表面から照射する代わりに物質透過性のある電磁波を利用して当該被測定物2の内部で発生させることで、被測定物2内部の欠陥3の表面からの深さ如何にかかわらず当該欠陥部分におけるポジトロンの消滅を可能とし、ポジトロン消滅時の特性γ線の発生タイミングまたはエネルギースペクトルを計測することにより欠陥を検出し評価する。
請求項(抜粋):
消滅する際のポジトロンが特性γ線を生じさせる陽電子消滅を利用して被測定物内における格子欠陥などの欠陥を検出し評価する欠陥評価装置において、X線を前記被測定物に照射することにより前記被測定物内にてパルスポジトロン群を発生させ、前記ポジトロン消滅時の特性γ線の発生タイミングまたはエネルギースペクトルを計測することにより欠陥を検出し評価することを特徴とする欠陥評価装置。
IPC (2件):
G01N 23/22 ,  G21K 5/02
FI (2件):
G01N 23/22 ,  G21K 5/02 X
Fターム (16件):
2G001AA01 ,  2G001AA02 ,  2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001AA10 ,  2G001BA28 ,  2G001CA02 ,  2G001DA02 ,  2G001FA17 ,  2G001GA01 ,  2G001GA03 ,  2G001GA08 ,  2G001JA01 ,  2G001KA03 ,  2G001LA02 ,  2G001NA17
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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