高清浄乾燥空気と乾燥空気の製造方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木戸一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-192095
公開番号（公開出願番号）：特開2000-024445
出願日： 1998年07月07日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】不純物含有量10ppb程度の高清浄乾燥空気と、従来から使用されている乾燥空気とを効率よく、かつ、安定的に供給することができる高清浄乾燥空気と乾燥空気の製造方法及び装置を提供する。【解決手段】原料空気を空気圧縮機1で圧縮する圧縮工程と、該原料空気中の水分を前置精製器3で除去する前置精製工程と、原料空気中の水素,一酸化炭素を触媒精製器5で水,二酸化炭素に転換する触媒精製工程と、水,二酸化炭素を吸着精製器6除去する吸着精製工程とを、この順で行うことにより高清浄乾燥空気を得るとともに、前記前置精製工程を経た乾燥空気を随時製品として採取する。

請求項（抜粋）：

原料空気を圧縮する圧縮工程と、該原料空気中の水分を除去する前置精製工程と、原料空気中の水素,一酸化炭素を水,二酸化炭素に転換する触媒精製工程と、水,二酸化炭素を除去する吸着精製工程とを、この順で行うことにより高清浄乾燥空気を得るとともに、前記前置精製工程を経た乾燥空気を随時製品として採取することを特徴とする高清浄乾燥空気及び乾燥空気の製造方法。

IPC (4件)：

B01D 53/26 101 , B01D 53/26 , B01D 53/04 , H01L 21/02

FI (5件)：

B01D 53/26 101 C , B01D 53/26 A , B01D 53/26 Z , B01D 53/04 Z , H01L 21/02 D

Fターム (34件)：

4D012CA01 , 4D012CA03 , 4D012CB16 , 4D012CD01 , 4D012CE02 , 4D012CE03 , 4D012CF02 , 4D012CF03 , 4D012CF04 , 4D012CF05 , 4D012CG01 , 4D012CH01 , 4D012CH05 , 4D012CH08 , 4D012CJ05 , 4D012CK01 , 4D012CK05 , 4D052AA01 , 4D052BA01 , 4D052CD00 , 4D052DA02 , 4D052DB01 , 4D052EA01 , 4D052FA01 , 4D052GA01 , 4D052GA03 , 4D052GB01 , 4D052GB02 , 4D052GB03 , 4D052GB04 , 4D052GB08 , 4D052HA01 , 4D052HA02 , 4D052HA03

引用特許：

審査官引用 (8件)

半導体製造工場向け各種ガスの製造方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-096200 出願人：日本酸素株式会社, 富士通株式会社
脱水気体の間欠的供給に適する装置と脱水方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-140992 出願人：パミア.インコーポレイテツド
特開平4-219111

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