特許

J-GLOBAL ID：200903090896834856

酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを用いる光触媒構造体

発明者： 斉藤 徳良 ,  斎藤 一徳 ,  本田 久司 ,  渡辺 力 ,  鎌田 博士 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社 ,  東芝ライテック株式会社
代理人 (1件)： 東海 裕作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-085707
公開番号（公開出願番号）：特開平9-248467
出願日： 1996年03月14日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】優れた光触媒活性を有し、且つ、優れた光学特性、機械的耐久性及び化学的耐久性を併せ持つバランスのとれた薄膜形成用組成物を提供する。また、耐熱性基体に酸化チタン薄膜を成膜し、優れた光学特性、機械的耐久性及び化学的耐久性を有し、且つ、防汚活性の優れた光触媒構造体を提供する。【解決手段】本発明は、酸化チタンゾルと安定化チタンアルコキシドを含有してなる酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを耐熱性基体に担持してなる光触媒構造体である。

請求項（抜粋）：

酸化チタンゾルと安定化チタンアルコキシドを含有してなる酸化チタン薄膜形成用組成物

IPC (3件)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  C03C 17/25

FI (3件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 M ,  C03C 17/25 A