急速熱処理装置及び方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三宅正夫 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-508381
公開番号（公開出願番号）：特表平10-504936
出願日： 1995年08月28日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】作業片12を急速且均一に加熱する装置及び方法であって、第一室20を画定する複数の壁と、作業片19の第一エネルギー伝達面上に入射放射する第一放射線源44と、上記室の作業片面中に作業片を保持する保持装置と、室の少くとも1つの壁22、24、26の上の放射線吸収面とを有する。保持装置はエネルギー伝達面を有し、保持装置及び作業片のエネルギー面は室に放射線を反射、放出し、放射線吸収面はエネルギー伝達面より反射放出した非入射放射線を吸収する。

請求項（抜粋）：

a)第一室を画定する複数の壁と、 b)作業片の第一エネルギー伝達面上に入射放射する第一放射源と、 c)前記作業片のエネルギー伝達面と共に前記第一室内に放射線を反射し放出するエネルギー伝達面を有し、前記第一室内の作業片面中に前記作業片を保持する保持装置と、 d)前記第一室の少なくともひとつの壁に設けられ、前記エネルギー伝達面から反射され放出された非入射放射線を吸収する放射線吸収面とを包含する、作業片を急速に且つ均一に加熱する装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

反応装置の自己洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-254079 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開昭63-076336
特表昭62-502823

前のページに戻る