基板処理装置および基板処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-278964
公開番号（公開出願番号）：特開2008-093577
出願日： 2006年10月12日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：

【課題】基板に対して良好に洗浄処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】薬液ユニット10は、基板Wの薬液処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット60は、薬液ユニット10により薬液が供給された基板Wにマイクロバブル水を供給して、マイクロバブル水による洗浄処理を可能とするユニットである。洗浄ユニット60は、主として、複数の上側ノズル61と、複数の下側ノズル62と、液ナイフ66と、貯留槽20と、マイクロバブル発生部21と、を備えている。これにより、薬液処理後の基板Wにマイクロバブル水を供給することができる。そのため、薬液処理において基板に付着した薬液をマイクロバブル水により迅速に置換することができ、洗浄処理に使用される処理液の量を低減させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に薬液を供給して薬液処理を可能とする薬液供給部と、マイクロバブルを発生させるマイクロバブル発生部と、前記薬液供給部により前記薬液が供給された前記基板に前記マイクロバブル発生部によって発生させられたマイクロバブルを含む処理液を供給して、前記処理液による洗浄処理を可能とする処理液供給部と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (8件)：

B08B 3/08 , B08B 3/02 , H01L 21/304 , H01L 21/027 , G02F 1/13 , G02F 1/133 , G11B 7/26 , G03F 7/42

FI (10件)：

B08B3/08 Z , B08B3/02 C , H01L21/304 643B , H01L21/304 647Z , H01L21/30 569F , H01L21/30 572B , G02F1/13 101 , G02F1/1333 500 , G11B7/26 501 , G03F7/42

Fターム (29件)：

2H088FA21 , 2H088FA23 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H090JB02 , 2H090JC19 , 2H096AA25 , 2H096LA03 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB14 , 3B201BB03 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 3B201BB99 , 3B201CB15 , 5D121BA01 , 5D121BB34 , 5D121BB38 , 5D121GG18 , 5D121GG28 , 5F046LA03 , 5F046LA12 , 5F046LA14 , 5F046MA02 , 5F046MA05 , 5F046MA06

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理方法および基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-066299 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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