基板処理方法および基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：間宮武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-066299
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273984
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】基板の表面にリンス液を供給して基板を処理する場合に、リンス液(純水)の使用量を低減させることができる方法を提供する。【解決手段】基板Wが水洗処理部10の処理チャンバ12内へ搬入されてきた当初においては入口ノズル20と上部スプレイノズル22とからリンス液を基板へ供給し、それ以後、基板が処理チャンバ10内から搬出されるまでは上部スプレイノズル22と下部スプレイノズル24とからリンス液を基板へ供給する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理チャンバ内において基板を搬送しつつ、前記処理チャンバの入口付近に配設され基板の上面へカーテン状にリンス液を吐出する入口ノズル、ならびに、基板搬送路を挟んでその上方および下方にそれぞれ基板搬送路に沿って連設され基板の上面および下面へリンス液を吐出する上部スプレイノズルおよび下部スプレイノズルから、基板に対しそれぞれリンス液を供給して基板を処理する基板処理方法において、基板が前記処理チャンバ内へ搬入されてきた当初においては前記入口ノズルと前記上部スプレイノズルとからリンス液を基板へ供給し、それ以後、基板が前記処理チャンバ内から搬出されるまでは前記上部スプレイノズルと前記下部スプレイノズルとからリンス液を基板へ供給することを特徴とする基板処理方法。

IPC (2件)：

H01L21/304 , G03F7/42

FI (4件)：

H01L21/304 643B , H01L21/304 647A , H01L21/304 647Z , G03F7/42

Fターム (3件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096LA02

引用特許：

審査官引用 (4件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-201666 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-334419 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-124727 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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