特許
J-GLOBAL ID：200903090974506038
含アルコキシケイ素系化合物類の製造における後処理方法およびその化合物類の製造方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-212230
公開番号（公開出願番号）：特開2003-026809
出願日： 2001年07月12日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：
【要約】【課題】 含アルコキシケイ素系化合物類製造時における触媒を除去する方法を提供する。【解決手段】遷移金属錯体触媒の存在下、Si-H結合を有するヒドロシラン化合物と水酸基を含有する化合物により、含アルコキシケイ素系化合物類を製造する場合において、反応終了時に反応液を金属酸化物と接触させることにより触媒残さが少なく安定性の良好なアルコキシケイ素系化合物類を得る。
請求項（抜粋）：
Si-H結合を有するケイ素系化合物とアルコールを遷移金属錯体存在下に接触させ、反応終了後に反応液を吸着剤で処理することにより得られた含アルコキシケイ素系化合物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4J035BA02
, 4J035CA021
, 4J035CA062
, 4J035CA142
, 4J035EA01
, 4J035EB03
, 4J035EB04
, 4J035EB08
, 4J035LA03
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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