特許
J-GLOBAL ID：200903091063829090
電子デバイスの製造方法及びその製造方法に適した塗布液
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
森 哲也
, 内藤 嘉昭
, 崔 秀▲てつ▼
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-312387
公開番号（公開出願番号）：特開2009-026730
出願日： 2007年12月03日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
【課題】塗布法にて積層構造を有する電子デバイスの製造方法及びその製造方法に適した塗布液を提供すること。【解決手段】有機物を含む層が少なくとも2層以上積層された電子デバイスの製造方法であって、基板上に直接あるいは他の層を介して有機物ならびに金属および/もしくは金属酸化物とを含む塗布液を塗布して混合層を製膜する第1工程と、当該第1工程で製膜した混合層の上に直接有機物を含む溶液を塗布して有機層を製膜する第2工程とを含む。これによって、簡便な塗布法にて積層構造を有する電子デバイスを容易に製造することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
有機物を含む層が少なくとも2層以上に積層された電子デバイスの製造方法であって、
有機物ならびに金属および/もしくは金属酸化物を含む塗布液Aを用いて第1層(混合層)を形成した後、有機物を含む塗布液Bを用いて第2層を積層することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H05B33/10
, H05B33/22 A
, H05B33/22 C
, H05B33/14 B
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107CC45
, 3K107DD58
, 3K107DD59
, 3K107DD70
, 3K107DD71
, 3K107DD74
, 3K107DD78
, 3K107DD84
, 3K107DD87
, 3K107FF14
, 3K107GG06
