特許

J-GLOBAL ID：200903099486660777

パターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法

発明者： 豊田 直之
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-362542
公開番号（公開出願番号）：特開2006-172854
出願日： 2004年12月15日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 液滴を乾燥して形成した積層パターンの均一性を向上するとともに、その生産性を向上したパターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】 下層液に親液性微粒子26を混和して下層形成液25Lを生成し、同下層形成液25Lからなる下層液滴25Dを乾燥して正孔輸送層を形成した。そして、正孔輸送層に紫外線を照射して親液性微粒子26の親液性を誘起させた後に、発光層形成材料を含む上層液滴を同正孔輸送層上に形成して発光層を積層するようにした。【選択図】 図9

請求項（抜粋）：

パターン形成材料を含む液滴を乾燥して形成したパターンを積層することによって形成した積層パターンを備えるパターン形成基板において、 下層パターンは、上層パターンを形成する前記液滴に対して親液性を有する親液性微粒子を含有したことを特徴とするパターン形成基板。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (2件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (6件)：

3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007GA00

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 有機EL装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-046893   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (1件)

• 光触媒含有層を有するEL素子とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-122520   出願人：大日本印刷株式会社