特許

J-GLOBAL ID：200903091078572346

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 辻川 裕貴
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-259591
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075943
出願日： 2000年08月29日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
要約：

【要約】【課題】簡単な構成で基板の下面に対して処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】回転軸11の上端にほぼ水平に保持されるベース部材12の上面に超音波振動板14が配置されている。ベース部材12の周縁部には、円筒状の堰部材13が立設されている。この堰部材13の内方に基板Wが置かれる。基板Wと超音波振動板14との間には純水が供給されて、液層20が形成される。この液層20を介して、超音波振動板14からの超音波振動が基板Wに付与される。純水は、連続供給され、堰部材13の切欠き13Aからオーバーフローさせながら、基板Wの超音波洗浄処理が行われる。

請求項（抜粋）：

ほぼ水平に保持される基板の少なくとも下面を処理液によって処理する基板処理装置であって、基板の下面に対向するように設けられた対向部材と、この対向部材と基板の下面との間に処理液を供給し、上記対向部材と基板の下面との間に処理液の液層を形成する処理液供給手段と、上記対向部材の上面に設けられ、上記液層を介して、上記基板に超音波振動を付与する超音波振動板とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 648 ,  B08B 3/12 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 642 F ,  H01L 21/304 648 Z ,  B08B 3/12 Z ,  H01L 21/68 N

Fターム (33件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BA02 ,  3B201BA13 ,  3B201BA33 ,  3B201BB21 ,  3B201BB85 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA08 ,  5F031GA15 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA09 ,  5F031HA46 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031LA12 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031NA04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 枚葉式洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-355900   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-326918   出願人：株式会社荏原製作所