特許
J-GLOBAL ID：200903071145734614

洗浄装置

発明者：
吉田 正夫

吉田 正夫 について

, 
阿藤 浩司

阿藤 浩司 について

, 
及川 文利

及川 文利 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (1件)： 熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-326918
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150439
出願日： 1998年11月17日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】【課題】 少ない洗浄液で効果的な洗浄が行え、スポンジ等の消耗部品が不要で、ウエハを清浄な状態で乾燥が可能で、例え半導体ウエハが大径化しても洗浄プロセスタイムが長くならず、装置の小型化も図れる洗浄装置を提供する。【解決手段】 半導体ウエハWの上下面に対して所定の隙間39-1,2を介して対向する上下部材10,30を具備する。上下部材10,30には半導体ウエハWの上下面に液膜を形成するに必要な洗浄液を供給する洗浄液供給路13,33を設置し、且つ液膜中に超音波振動を印加する超音波振動子15,35を取り付ける。上下部材10,30間に収納した半導体ウエハWの上下面に形成される液膜中に超音波振動を加えることで半導体ウエハWに付着しているダストを洗浄して取り除く。バルブ50-1,50-2,51の切り換えにより、不活性ガスをウエハWに供給することによりウエハWを清浄な状態で乾燥する。
請求項（抜粋）：
薄板状の被洗浄物の上下面に対して所定の隙間を介して対向する上下部材を具備し、該上下部材にはそれぞれ被洗浄物の上下面に液膜を形成するに必要な洗浄液を供給する洗浄液供給手段を設置し、且つ該上下部材の両者又は何れか一方には前記液膜中に超音波振動を印加する超音波振動子を取り付け、前記上下部材間に収納した被洗浄物の上下面に形成される液膜中に超音波振動を加えることで被洗浄物に付着しているダストを洗浄して取り除くことを特徴とする洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 645 ,  B08B 3/12
FI (4件)：
H01L 21/304 643 D ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 645 A ,  B08B 3/12 C
Fターム (19件)：
3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB34 ,  3B201AB44 ,  3B201BA13 ,  3B201BA15 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB45 ,  3B201BB62 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CB12 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13
引用特許：
審査官引用 (4件)
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