特許

J-GLOBAL ID：200903091085055748

薄膜生成装置およびこれを用いた電子デバイスの製造方法

発明者： 出雲 正雄
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (4件)： 大岩 増雄 ,  児玉 俊英 ,  竹中 岑生 ,  村上 啓吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-084341
公開番号（公開出願番号）：特開2006-265615
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】初期投資コストおよびランニングコストの小さな薄膜生成装置と、これを用いた電子デバイスの製造方法を提案する。【解決手段】蒸発物質を含んだ蒸発源HEが配置される蒸発空間C11と、蒸発物質を加熱し蒸発物質の蒸気を発生する加熱源EBとを有する蒸発室C1、蒸発室に固着され、圧力調整空間を有する圧力調整室C2、および圧力調整器に着脱可能に結合され、成膜空間を有する少なくとも1つの成膜室を備えた薄膜生成装置である。圧力調整空間C21は、第1、第2ゲートバルブにより蒸発空間と成膜空間にそれぞれ制御可能に連通される。成膜室が圧力調整室C2に結合され、圧力調整空間が蒸発空間と成膜空間とに連通した状態において、蒸発物質の蒸気に基づき、成膜空間に配置された基板S5上に薄膜を形成する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

蒸発物質を含んだ蒸発源が配置される蒸発空間と、前記蒸発物質を加熱し前記蒸発物質の蒸気を発生する加熱源とを有する蒸発室、 前記蒸発室に固着され、圧力調整空間を有する圧力調整室、および 前記圧力調整室に着脱可能に結合され、成膜空間を有する少なくとも1つの成膜室を備え、 前記圧力調整空間は、前記蒸発空間と前記成膜空間にそれぞれ制御可能に連通されるように構成され、 前記成膜室が前記圧力調整室に結合され、前記圧力調整空間が前記蒸発空間と前記成膜空間とに連通した状態において、前記蒸発物質の蒸気に基づき、前記成膜空間に配置された基板上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜生成装置。

IPC (1件)：

C23C 14/24

FI (1件)：

C23C14/24 T

Fターム (11件)：

4K029AA24 ,  4K029BD01 ,  4K029CA01 ,  4K029DA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA10 ,  4K029DB15 ,  4K029DB21 ,  4K029JA06 ,  4K029JA08 ,  4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-347738   出願人：日電アネルバ株式会社