特許
J-GLOBAL ID：200903091107095684

モノマーの製造方法

発明者：
村田 直志

村田 直志 について

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園部 寛

園部 寛 について

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田村 公夫

田村 公夫 について

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吉田 康一

吉田 康一 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-060308
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247513
出願日： 2000年03月06日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：
【要約】【課題】 アルコールの脱水物の含有量が少ないレジスト用モノマーをエステル交換反応により製造する方法を提供する。【解決手段】 原料エステルと原料アルコールとのエステル交換反応によりレジスト用ポリマーの原料モノマーを製造する方法において、原料エステルおよび原料アルコール中の水分含有率を200ppm以下となるように脱水した後、エステル交換反応を開始することを特徴とするレジスト用ポリマーの原料モノマーの製造方法。
請求項（抜粋）：
原料エステルと原料アルコールとのエステル交換反応によりレジスト用ポリマーの原料モノマーを製造する方法において、原料エステルおよび原料アルコール中の水分含有率を200ppm以下となるように脱水した後、エステル交換反応を開始することを特徴とするレジスト用ポリマーの原料モノマーの製造方法。
IPC (9件)：
C07C 67/03 ,  B01J 31/12 ,  C07C 69/54 ,  C07D307/33 ,  C07D309/30 ,  G03F 7/038 601 ,  C07B 61/00 300 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28
FI (9件)：
C07C 67/03 ,  B01J 31/12 X ,  C07C 69/54 B ,  C07D309/30 D ,  G03F 7/038 601 ,  C07B 61/00 300 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C07D307/32 Q
Fターム (29件)：
2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4C037FA10 ,  4C062BB60 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AC13 ,  4H006AC48 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BJ30 ,  4H006KA03 ,  4H006KE20 ,  4H039CA42 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CD40 ,  4J100AL08P ,  4J100BC07P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (10件)
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