特許
J-GLOBAL ID:200903091125845720
研摩加工用スラリー
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池田 治幸 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-214776
公開番号(公開出願番号):特開2001-040335
出願日: 1999年07月29日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 砥粒の混入率をそれほど増加させることなく、研摩加工において研摩面の表面粗さを細かくすると同時に研摩能率を向上させることができる研摩加工用スラリーを提供する。【解決手段】 研摩加工用スラリー10には、その分散媒である水12に溶解し且つ析出した状態の界面活性剤すなわち脂肪酸或いは脂肪酸塩16が含まれることから、スラリー10すなわち水12内に析出した粒状の脂肪酸或いは脂肪酸塩16がスラリー10中の砥粒14の間に介在することによってその砥粒14が積極的に分散させられるので、相対移動させられる研摩盤20とそれに向かって押圧されるワーク22との間に砥粒14が容易に入り込むことができるようになり、スラリー10中の砥粒14の混入率をそれほど増加させることなく、研摩加工においてワーク22の研摩面24の表面粗さを細かくすると同時に研摩能率を向上させることができる。
請求項(抜粋):
砥粒と該砥粒が分散させられる分散媒とを含み、研摩加工のために研摩盤上に供給される研摩加工用スラリーであって、前記分散媒に溶解し且つ析出した状態の界面活性剤を含むことを特徴とする研摩加工用スラリー。
IPC (3件):
C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, B24B 37/00
FI (3件):
C09K 3/14 550 Z
, C09K 3/14 550 D
, B24B 37/00 H
Fターム (6件):
3C058AA07
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 3C058DA12
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
テクスチャリング加工用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-088406
出願人:昭和電工株式会社
-
磁気記録媒体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-357376
出願人:三菱化学株式会社
-
研磨用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-342108
出願人:株式会社フジミインコーポレーテッド
前のページに戻る