特許
J-GLOBAL ID：200903019697386163

研磨用組成物

発明者：
伊 奈 克 芳

伊 奈 克 芳 について

, 
河 村 篤 紀

河 村 篤 紀 について

, 
鈴 村 聡

鈴 村 聡 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-342108
公開番号（公開出願番号）：特開2000-160140
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：
【要約】【課題】 金属膜に対する研磨速度が大きく、一方、絶縁膜に対する研磨速度が小さく、高い選択比を有する研磨用組成物の提供。【解決手段】 下記(A1)〜(C)の成分を含んでなることを特徴とする研磨用組成物。(A1)二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、炭化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、(A2)25°Cにおける標準電極電位が0.5V以上である酸化反応を起こし得る化学種を含んでなる酸化剤、(B)飽和炭化水素または飽和脂肪酸からなる群から選ばれる少なくとも1種類の水不溶性化合物、および(C)水。
請求項（抜粋）：
下記の成分を含んでなることを特徴とする研磨用組成物。(A1)二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、炭化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材、(A2)25°Cにおける標準電極電位が0.5V以上である酸化反応を起こし得る化学種を含んでなる酸化剤、(B)飽和炭化水素または飽和脂肪酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の水不溶性化合物、および(C)水。
IPC (2件)：
C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14
FI (4件)：
C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 E ,  C09K 3/14 550 M ,  C09K 3/14 550 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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