特許
J-GLOBAL ID：200903091135048497
光処理装置および光処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-243762
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063985
出願日： 1995年08月29日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【目的】 ガラス基板上に成膜された非晶質珪素膜へのレーザー光の照射によって、この非晶質珪素膜を結晶化させる際において、その均一性を向上させる。【構成】 減圧状態にされた室107と加熱されたヘリウムで満たされた室108の間にガラス基板103を配置し、圧力差とヘリウムガスの熱によって、ガラス基板103を一定の形状に強制的に湾曲させる。この状態でレーザー光106の照射を行うことで、個々のガラス基板の微妙な変形の違いに起因するレーザーアニール効果の違いを是正する。
請求項（抜粋）：
レーザー光または強光を照射する装置であって、気体の圧力差を利用してガラス基板を変形させる手段と、前記変形したガラス基板に対してレーザー光を照射する手段と、を有することを特徴とする光処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/268
, H01L 21/20
, H01L 27/12
, H01L 29/786
, H01L 21/336
H01L 21/268 Z
, H01L 21/20
, H01L 27/12 R
, H01L 29/78 627 G
