特許
J-GLOBAL ID:200903091143113745
プリント配線板の製造方法およびプリント配線板
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 順三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-168811
公開番号(公開出願番号):特開平7-030228
出願日: 1993年07月08日
公開日(公表日): 1995年01月31日
要約:
【要約】【目的】 ファインパターンにおいても無電解めっきの析出量とパターン間の高絶縁性を共に確保することができる触媒付与技術を確立し、信頼性に優れるプリント配線板を安定して得ること。【構成】 少なくとも一方の基板表面に接着剤層を形成し、この接着剤層の表面を粗化した後、水または有機溶剤に分散した貴金属超微粒子ゾルを用いる活性化処理を行ってから無電解めっきを施して導体を形成するプリント配線板の製造方法において、上記貴金属超微粒子ゾルを用いる活性化処理によって付与される触媒量(CV )および触媒核の大きさ(R)を、貴金属換算で下記式を満足するように制御する。これにより、信頼性に優れるプリント配線板を安定して得ることができる。記0.01μg/cm2 ≦(CV /A)≦10.0μg/cm2 1Å ≦ R ≦ 500 ÅCV :貴金属換算の触媒量(μg)A :基板の投影面積(粗化前の面積,cm2 )R :触媒核の大きさ(平均直径,Å)
請求項(抜粋):
少なくとも一方の基板表面に接着剤層を形成し、この接着剤層の表面を粗化した後、水または有機溶剤に分散した貴金属超微粒子ゾルを用いる活性化処理を行ってから無電解めっきを施して導体を形成するプリント配線板の製造方法において、上記貴金属超微粒子ゾルを用いる活性化処理によって付与される触媒量(CV)および触媒核の大きさ(R)を、貴金属換算で下記式を満足するように制御することを特徴とするプリント配線板の製造方法。記0.01μg/cm2 ≦(CV /A)≦10.0μg/cm21Å ≦ R ≦ 500 ÅCV :貴金属換算の触媒量(μg)A :基板の投影面積(粗化前の面積,cm2 )R :触媒核の大きさ(平均直径,Å)
引用特許:
審査官引用 (5件)
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プリント配線板の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-228690
出願人:イビデン株式会社
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特開平2-044796
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特開平1-219168
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特開平2-104671
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特公平2-002949
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