特許
J-GLOBAL ID：200903091164508928
蛍光X線分析方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-100417
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281177
出願日： 2000年04月03日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：
【要約】【課題】 試料における任意の微小部位を正確に蛍光X線分析する。【解決手段】 目的元素を含む領域が表面で直線状の外形線f を有する調整用試料11を用い、前記外形線f がr方向と平面視で直交するようにrθステージ5 に載置し、r方向に移動させながら目的元素について蛍光X線強度の分布測定を行い、rθステージ5 で調整用試料11を180度回転させて再度同様に蛍光X線強度の分布測定を行う。そして、それらの分布測定結果に基づき、rθステージ5でのr方向の移動において、試料表面の所定の高さで、rθステージ5 の回転中心が、検出手段3 が絞り孔4aを通して臨む位置に合致する位置を求める。
請求項（抜粋）：
rθステージで試料の表面を所定の高さに維持して絞り孔を有する検出手段に対して移動させ、試料にX線源から1次X線を照射して発生する蛍光X線の一部を前記絞り孔を通過させてその強度を検出手段で測定する蛍光X線分析方法であって、前記rθステージのr方向が、前記検出手段が絞り孔を通して臨む方向と平面視で平行かまたは重なり、前記絞り孔が、前記rθステージのr方向と平面視で直交する、水平な方向に移動調整可能であり、目的元素を含む領域が表面で直線状の外形線を有する試料を調整用試料として用い、前記直線状の外形線が前記rθステージのr方向と平面視で直交するように前記調整用試料を前記rθステージに載置し、前記rθステージで前記r方向に移動させながら前記X線源から1次X線を照射して前記検出手段で前記目的元素について蛍光X線強度の分布測定を行い、前記rθステージで前記調整用試料を180度回転させて再度同様に蛍光X線強度の分布測定を行い、それらの分布測定結果に基づき、前記rθステージでのr方向の移動において、前記所定の高さで、前記rθステージの回転中心が、前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置に合致する位置を求めるとともに、前記直線状の外形線が前記絞り孔の移動方向と平面視で直交するように前記調整用試料を前記rθステージに載置し、前記絞り孔を前記移動方向に移動させながら前記X線源から1次X線を照射して前記検出手段で前記目的元素について蛍光X線強度の分布測定を行い、前記rθステージで前記調整用試料を180度回転させて再度同様に蛍光X線強度の分布測定を行い、それらの分布測定結果に基づき、前記絞り孔の移動において、前記所定の高さで、前記検出手段が絞り孔を通して臨む位置が、前記rθステージの回転中心に合致する位置を求める蛍光X線分析方法。
Fターム (22件)：
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001DA02
, 2G001EA01
, 2G001FA02
, 2G001FA06
, 2G001GA01
, 2G001GA04
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001HA13
, 2G001JA04
, 2G001JA08
, 2G001JA11
, 2G001JA13
, 2G001KA01
, 2G001PA11
, 2G001PA12
, 2G001SA01
, 2G001SA04
出願人引用 (2件)
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蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-097744
出願人：株式会社島津製作所
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特開昭61-057804
審査官引用 (2件)
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蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-097744
出願人：株式会社島津製作所
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特開昭61-057804
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