特許

J-GLOBAL ID：200903091267005304

誘導結合プラズマ装置

発明者： 榊原 康史 ,  片桐 源一 ,  清水 明夫
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-317192
公開番号（公開出願番号）：特開平10-162991
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】プラズマ炎による電気絶縁管の破壊や、プラズマ炎の紫外線による高周波誘導コイルの絶縁破壊を生じることなく、長期にわたり再現性よく安定して運転できるものとする。【解決手段】電気絶縁管1の内部にガス導入部4よりプラズマガスを導入し、高周波電源3を用いて高周波誘導コイル2に高周波電流を通電し、導入したガスをプラズマ化してプラズマ炎6を発生させて用いるものにおいて、高周波誘導コイル2を、電気絶縁管1の外側に同軸状に配設した円筒状のコイル固定枠5に巻装して固定する。

請求項（抜粋）：

高周波誘導コイルを巻装した電気絶縁管の内部にプラズマガスを導入し、高周波誘導コイルに高周波電流を通電して前記ガスをプラズマ化して用いる誘導結合プラズマ装置において、高周波誘導コイルが、前記電気絶縁管の外側に同軸状に配置された電気絶縁性材料よりなる円筒状のコイル固定枠に巻装固定されていることを特徴とする誘導結合プラズマ装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-140600
  
• 半導体処理装置用チャンバー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-004885   出願人：株式会社プラズマシステム