特許
J-GLOBAL ID:200903091270067078

亀裂深さの非破壊検査法及び亀裂数の非破壊検査法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-030716
公開番号(公開出願番号):特開平8-313473
出願日: 1996年02月19日
公開日(公表日): 1996年11月29日
要約:
【要約】【課題】交流電位差法を利用して、微細な亀裂が複数分布する表面欠陥の平均亀裂深さ及び亀裂数を定量的に非破壊検査する。【解決手段】複数の亀裂の平均亀裂間隔bを求め、平均亀裂間隔bと表皮深さδとの関係がδ<b/2となるように測定周波数fを決定し、この周波数fの交流電流を電流入力端子4から被測定物1の表面に供給する。電流入力端子4、4間で複数の亀裂2を含む範囲に所定の間隔Δで当接された電位差測定探触子5、5により電位差Vを求める。電流入力端子4、4間で亀裂が存在しない範囲に所定の間隔Δで当接された電位差測定探触子6、6により電位差V<SB>O </SB>を求める。電位差Vと電位差V<SB>O </SB>とを比較することにより、亀裂数nと平均亀裂深さaとの積naを求める。電位差測定探触子5、5間に存在する亀裂の亀裂数nを求め、naの値から平均亀裂深さaを求める。
請求項(抜粋):
被測定物表面に複数存在する亀裂の平均亀裂深さを検出する方法であって、上記複数の亀裂の平均亀裂間隔bを求め、該平均亀裂間隔bと表皮深さδとの関係がδ<b/2となるように周波数f<SB>P </SB>を決定する工程と、上記被測定物の表面に当接された電流入力端子に上記周波数f<SB>P </SB>の交流電流を供給し、上記電流入力端子間で上記被測定物の表面に所定の間隔Δで当接された電位差測定探触子により該電流供給時に発生する電位差V<SB>P </SB>を求める工程と、上記電位差測定探触子間に亀裂がないと仮定したときに上記周波数f<SB>P </SB>の交流電流供給時に発生する電位差V<SB>PO</SB>を求める工程と、上記電位差V<SB>P </SB>と上記電位差V<SB>PO</SB>とを比較し、下記式V<SB>P </SB>/V<SB>PO </SB>=(Δ+2na)/Δより、亀裂数nと平均亀裂深さaとの積naを求める工程と、上記電位差測定探触子間に存在する亀裂の亀裂数nを求め、該亀裂数n及び上記亀裂数nと平均亀裂深さaとの積naから平均亀裂深さaを求める工程とからなることを特徴とする亀裂深さの非破壊検査法。
IPC (2件):
G01N 27/20 ,  G01B 7/26
FI (2件):
G01N 27/20 B ,  G01B 7/26
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 材料の劣化計測方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-027163   出願人:庄子哲雄, 日本ハイコン株式会社
  • 特開平4-186102
  • 特開平2-047545
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