特許
J-GLOBAL ID:200903091329361170

光インプリント方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 辻永 和徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-366972
公開番号(公開出願番号):特開2006-173508
出願日: 2004年12月20日
公開日(公表日): 2006年06月29日
要約:
【課題】 光インプリント方法において均一な残膜分布を与え、UV等の照射時に干渉縞が発生しない方法を開発すること。【解決手段】 1)基板に塗布されたレジストに対してレジストの架橋度が所定の値になるような露光量で予備露光を行い粘度を大きくする工程、2)モールドをレジストに押しつけて型押しする工程、および3)レジストを本露光して架橋度が0.8以上になりほぼ完全に硬化する工程、を含み樹脂の柔軟性を維持しつつ光インプリントを行う。【選択図】なし
請求項(抜粋):
1)基板に塗布されたレジストの粘度を大きくする工程、 2)モールドをレジストに押しつけて型押しする工程、および 3)レジストを露光する工程を含む、 光インプリント方法。
IPC (1件):
H01L 21/027
FI (1件):
H01L21/30 502D
Fターム (2件):
5F046AA28 ,  5F046JA22
引用特許:
審査官引用 (2件)

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