ステージ精度評価方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-084477
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297102
出願日： 1994年04月22日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】露光装置のステージのステッピング精度を種々の要因別に評価し、そのステッピング精度を修正するための具体的な方法を示唆する。【構成】バーニア評価法により、隣接するショット領域間のアライメント誤差SX,BYを計測する。そのアライメント誤差から、スケーリングRx,Ry、直交度ω、ローテーションθ及びオフセットよりなる線形成分を分離して、非線形成分を得る。そのスケーリングRx,Ryの誤差等を用いてウエハステージのヨーイングによる誤差成分、及びレーザ干渉計用の移動鏡の曲がりによる誤差成分を分離する。

請求項（抜粋）：

2次元平面内で互いに交差する第1の方向及び第2の方向に感光性の基板の位置決めを行うステージを有し、前記基板上にマスクパターンを露光する露光装置の前記ステージの評価方法において、前記ステージ上に感光性の評価用基板を載置し、該評価用基板上の第1のショット領域上に評価用マークを露光した後、前記ステージを駆動して前記評価用基板を移動させてから前記評価用基板上の前記第1のショット領域と一部が重なる第2のショット領域上に前記評価用マークを露光する動作を繰り返す第1工程と;前記評価用基板上の隣接するショット領域間の重ね合わせ部分に露光された前記評価用マークの前記第1の方向及び前記第2の方向へのずれ量をそれぞれ計測する第2工程と;該第2工程で計測されたずれ量より線形誤差成分の内のスケーリング誤差成分を求める第3工程と;該第3工程で求められた前記スケーリング誤差成分より前記ステージの移動時の回転成分を求める第4工程と;を有することを特徴とするステージ精度評価方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B23Q 17/24 , G01B 11/00 , H01L 21/30 , H01L 21/68

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平2-174110
特開昭62-171126
特開昭59-161815

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